Substance Designerのチュートリアルをまとめたい

目次


はじめに

モデルからベイクしたテクスチャを用いて、溝になる部分に汚しを追加する事が可能になります。
その他にも多様なマスクをジェネレートする事が出来ます。

目標

ベイクしたテクスチャからマスクを生成する
ジェネレータ毎の特性を知る




必要なもの

まずはベイク

AO、曲率(Curvature)をベイク
ベイクの項目を参考にしながら作りましょう。
今回使うのは上記二つですが、他のテクスチャをベイクしてもOKです。




マスクジェネレータを作成・調整

Mask Builderを作成し、AO、Curvatureテクスチャをそれぞれつなげる
Mask Builderのパラメータを設定
基本的にAOとCurvatureがあればほとんど作ることが出来ます。

位置やワールド法線もあればさらに高度な事も出来ます。
参考:マスクジェネレータ一覧





完成


ざっくりと割り当てています。ぱっと見分かりにくいですが、縁が黒ずんでいます。
縁となる部分=汚れやすい部分にマスクが出来たので、その部分のラフネスを上げたりメタリックを下げたり色を暗くすれば汚れた表現になると思います。



完成データ

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